光纤光缆研制工艺（光纤光缆制备）

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于光纤光缆研制工艺的问题，于是小编就整理了3个相关介绍光纤光缆研制工艺的解答，让我们一起看看吧。

光缆切割光电复合光缆采用光纤作为芯材的光缆，一般是采用包层工艺（目前使用的是PE包层工艺）。包层材料有聚酯、聚乙烯等，而PVC光缆熔接时需将PE光缆与PVC光缆用热收缩带进行热缩连接，所以在切割时需要进行热缩连接。

开剥光缆，并将光缆固定到盘纤架上。分别将皮线光纤穿过热缩管。熔接完成后，可以用热缩管保护光纤熔接头。打开皮线熔接机电源，设置合适的熔接方式。制备光纤端面。

重量轻，体积小。例如：通2万1千话路的900对双绞线，其直径为3英寸，重量8吨/KM。而通讯量为其十倍的光缆，直径为0.5英寸，重量450P/KM。光纤通讯不带电，使用安全可用于易燃，易暴场所。

因而通过对拉丝炉元器件进行结构改良，并对炉内气流工艺改进。得到以下结果：A. 最终使光纤在拉丝过程中的F径变化幅值控制在0.3μm左右。

MCVD法是目前制备高质量石英光纤比较稳定可靠的方法，该法制备的单模光纤损耗可达到0.2-0.3dB／km，而且具有很好的重复性。

制造光纤的方法很多，目前主要有：管内CVD（化学汽相沉积）法，棒内CVD法，PCVD（等离子体化学汽相沉积）法和VAD（轴向汽相沉积）法。

【答案】：光纤通信系统中所用光纤的制造过程分两步。第一步用气相沉积法制造一根具有所需折射率分布的预制棒，制造预制棒的常用方法有三种：改进的化学气相沉积法、棒外气相沉积法和轴向气相沉积法。

除氢氟酸、热磷酸外，对一般酸有较好的耐酸性。按透明度分为透明和不透明两大类。按纯度分为高纯、普通和掺杂三类。用水晶、硅石、硅化物为原料，经高温熔化或化学气相沉积而成。熔制方法有电熔法、气炼法等。

在沉积过程中需要精密地控制掺杂剂的流量，从而获得所设计的折射率分布。采用MCVD法制备的B／Ge共掺杂光纤作为光纤的内包层，能够抑制包层中的模式耦合，大大降低光纤的传输损耗。

在制造光纤的过程中，要注重：①光纤原材料的纯度必须很高。②必须防止杂质污染，以及气泡混入光纤。③要准确控制折射率的分布；④正确控制光纤的结构尺寸；⑤尽量减小光纤表面的伤痕损害，提高光纤机械强度。

光纤着色后应满足以下各方面的要求：着色光纤颜色不迁移，不褪色（用丁酮或酒精擦拭也如此）。光纤排线整齐，平整，不乱线，不压线。光纤衰减指标达到要求，OTDR测试曲线无台阶等现象。

好的光缆要有足够的强度，能够防止过度的弯曲；同时，还要有一定的柔韧性，以确保易于运输和铺设。损伤保护玻璃光纤在受到损伤的情况下性能会急剧劣化。由损伤引起的细微裂纹会沿着玻璃延伸并使损耗显著增加。

接续点附近光纤物理变形：光缆在架设过程中的拉伸变形，接续盒中夹固光缆压力太大等，都会对接续损耗有影响，甚至熔接几次都不能改善。其他因素的影响。

到此，以上就是小编对于光纤光缆研制工艺的问题就介绍到这了，希望介绍关于光纤光缆研制工艺的3点解答对大家有用。